《以相机闻名的佳能公司发起 对ASML挑战，用机器制造最先进的芯片》

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导读：

• 以生产打印机和照相机而闻名的日本佳能公司周五推出了一种关键工具，称它可以帮助制造最先进的半导体。

• 最新的“纳米压印光刻”系统是佳能对荷兰ASML公司的挑战，后者在极紫外（EUV）光刻机领域占据主导地位。

• 佳能表示，其最新设备名为 FPA-1200NZ2C，能够制造相当于 5 纳米工艺的半导体，最小可达到2纳米。

以生产打印机和照相机而闻名的日本佳能公司周五推出了一种关键工具，称它可以帮助制造最先进的半导体。

最新的“纳米压印光刻”系统是佳能对荷兰公司ASML的挑战，后者在极紫外光（EUV）光刻机领域占据主导地位。制造最先进的芯片（如台积电生产的最新苹果 iPhone 中的芯片）需要 ASML 的工具。

ASML的 EUV 技术在最先进的芯片制造商中越来越受欢迎，因为它在制造 5 纳米及以下的半导体方面发挥了关键作用。纳米是指芯片上的特征尺寸。这个数字越小，芯片上就能容纳更多的特征，从而提高半导体的功率。

佳能表示，其最新的机器名为FPA-1200NZ2C，能够制造出相当于 5 纳米工艺的半导体，最小可达到 2 纳米。苹果 iPhone 15 Pro 和 Pro Max 内的 A17 Pro 芯片是 3 纳米半导体。

台积电和韩国三星这两家最大的先进芯片制造公司的目标是在 2025 年制造出 2 纳米芯片。

光刻机是将芯片设计有效打印到最终制成半导体的材料上的关键。

ASML的机器在这一过程中使用紫外线。佳能表示，它的机器不需要特殊波长的光源，因此可以降低功耗。

佳能公司在照相机、光学设备和打印机领域具有传统优势，在全球越来越需要芯片为人工智能等技术提供动力之际，佳能公司重新关注半导体供应链。

虽然该公司自 2004 年以来一直在开发纳米压印光刻技术，但在芯片日益复杂的世界里，该技术并没有起飞。

塔克夏希拉研究所高科技地缘政治项目主席普拉内·科塔斯坦表示：“NIL已经存在了20多年，但还没有被广泛接受。”

部分原因是像ASML公司生产的EUV机器在芯片打印过程中效果更好。

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